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机构名称：
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表面效应可以显着影响纳米光子和量子光子设备的性能，尤其是随着设备尺寸的降低。在这项工作中，我们提出并研究了一种新型的表面钝化方法，以减轻由III-AS（P）量子孔（由干燥蚀刻过程定义的IIII-AS（P）量子孔）中的这些挑战。纳米结构在金属有机蒸气相外部室内的磷酸（pH 3）环境下退火，以消除在干燥蚀刻和随后的蚀刻侧壁氧化过程中诱导的表面和地下缺陷。用更宽的带隙材料封装活性材料可以维护设备的带结构，从而减轻带弯曲的效果。我们的发现显示，pH 3退火的表面重组速度从2×10 3 cm / s的表面重组速度几乎降低。5×10 4 cm / s，用于基于（NH 4）2 s湿处理的标准方法的5×10 3 cm / s，然后是Al 2 O 3封装。为INP重建样品实现了进一步的减少至5×10 2 cm / s。另外，我们开发了一个模型，该模型占时间分析的光致发光曲线分析中的影响，并证明所提出的钝化方法有效地降低了所研究的量子良好光光子纳米结构的侧壁上的表面电荷密度。
arxiv：2502.08616v1 [physics.optics] 2025年2月12日
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